熊猫羊 发表于 2006-10-10 06:27

等我有时间了想写写各类CVD和PVD,以及LIGA技术,以及光刻光源,如,极紫外EUV,真空紫外VUV,同步辐射光,以及一个有意思的光学器件:光栅.

[ 本帖最后由 熊猫羊 于 2006-10-10 23:36 编辑 ]

eisenstange 发表于 2006-10-10 11:00

Serial Nr: 124

[ 本帖最后由 eisenstange 于 2007-12-3 21:58 编辑 ]

熊猫羊 发表于 2006-10-10 23:43

CVD技术

占楼
CVD即Chemical Vapour Depostion,化学沉积法
包括
CVD
PECVD
RTCVD
UHVCVD
MOCVD


MOCVD,MBE(见PVD技术)是制造量子阱,量子线,量子点器件的关键技术之一

[ 本帖最后由 熊猫羊 于 2006-10-10 23:49 编辑 ]

熊猫羊 发表于 2006-10-10 23:55

PVD技术

PVD,即,Physical Vapour Deposition物理蒸汽沉积
主要包括
蒸镀
sputter溅射
APVD电弧物理蒸汽沉积
IP离子注入
MBE分子束外延

熊猫羊 发表于 2006-10-11 00:07

光刻光源

由于光罩的衍射极限,光刻很大程度要求光源波长要小,此外,高单色性(频谱极窄),高强度,高相干也是要求

光刻光源主要包括
1 汞灯,(呵呵我就用过这个,因为我经历的光刻是太阳能电池和光波导,光刻线宽都大于1微米,无需layout),此外,需说明,汞灯是最强单色性最好的非激光光源.
2 紫外光源,包括UV,EUV,VVU,
3 synchrotron radiation同步辐射光源,国内北京,合肥,台北个有一座,德国的叫DESY,在汉堡
4 FEL自由电子激光,不过,现在实用的较少,多在建,如德国的BESSY.这是挑战现有光刻期限的希望

[ 本帖最后由 熊猫羊 于 2006-10-13 16:56 编辑 ]

熊猫羊 发表于 2006-10-11 00:15

LIGA技术

LIGA是德语 Lithographie Galvanoformung Abformung的词头缩写,中文大意光刻-电铸-成型加工法
一般光刻的刻深:线度比远小于1,LIGA是种深层体光刻法,
LIGA技术最早由Karsuhr的核研究中心提出,利用同步辐射在塑料上光刻再电铸,最后成型,早期的LIGA多用于制造MEMS,微电[光]机系统,如微型齿轮,马达,微反射镜,耦合器等,后来逐渐用也于半导体制造

熊猫羊 发表于 2006-10-11 00:45

大话 光栅

光栅Gitter,grating,行话,能周期性分割电磁波波前,并在其后产生的衍射现象的器件.
最简单的光栅就是在平整的光学玻璃上划出平行等距的密集的刻线,越密越好,原因见后文

光栅是由一个美国作家发现的,名字忘了(待补),某日他无聊用一块张紧的丝绸手帕对着路灯,发现(除了Moire条纹外),当路灯相对观察者不动,但缓缓移动手帕时,(待续)
此外,他向一个美国的天文学家,,名字又忘了(再待补),请教此现象,于是光栅开始被规范研究.
光栅之父当Fraunhofer莫属,他是个从工匠成长起来的光学家,动手很重要,制造了各类高超的光学器件,当然也包括光栅,最早他把金属丝并排在一起当光栅,(同时也是个起偏器),后来他发明了光栅刻画机,用金刚石刻画光学玻璃,并配以精密步进系统控制栅距,这种刻画光栅的密度可超过300条每毫米,刻画光栅是第一代光栅,其缺点是,刻画时的栅距偶然误差会引起所谓的鬼线,见后文.现代光栅又分两代,
1,三明治型全息光敏光栅,(待续)
2 电子束刻蚀光栅,(待续)

原理
Huygens-Fresnel-Kirchenhof原理
简而言之,用相位合成法可得光栅不同衍射级上的强度,相位
(待续)

种类 (待续)
透射光栅,
反射光栅
闪耀光栅
凹面光栅

特殊光栅(待续)
零阶光栅,
闪耀光栅
Kinoform

应用,(待续)
作为色散元件,最简易的单色仪就是面对面的两块联动光栅
作为分光元件,

eisenstange 发表于 2006-10-11 23:14

Serial Nr: 124

[ 本帖最后由 eisenstange 于 2007-12-3 21:58 编辑 ]

熊猫羊 发表于 2006-10-11 23:43

Epitaxie
在半导体技术里叫"单晶体掩模技术"么?
物理里一般叫,
好像叫外延,台湾一般称垒晶,
外延主要有
LPE液相外延
VPE气相外延
VE真空外延
MBE分子束外延

其中MBE是低温过程多用于长突变结,由于温度低,衬底-外延层间的扩散微弱,故只要衬底-外延层间的晶格适配度小,突变结质量很高,结宽可小到若干原子层厚度.常用于制造双异质结半导体激光器(DHJLD),量子阱半导体激光器QWLD,如CDROM,DVDROM的光学读取部分的光源就是一个GaAs/GaAlAs-DHJLD.

eisenstange 发表于 2006-10-12 16:20

Serial Nr: 124

[ 本帖最后由 eisenstange 于 2007-12-3 21:59 编辑 ]

零+ 发表于 2006-10-13 18:21

我已经bookmark这一页了,铁棍, 熊猫你们都在哪读电子呢?=)

熊猫羊 发表于 2006-10-13 18:32

我不读电子,我读物理

熊猫羊 发表于 2006-10-13 23:17

服了,"小甜甜"Britney教半导体物理
http://britneyspears.ac/lasers.htm

eisenstange 发表于 2006-10-14 10:34

Serial Nr: 124

[ 本帖最后由 eisenstange 于 2007-12-3 21:59 编辑 ]

eisenstange 发表于 2006-10-21 15:17

Serial Nr: 0028

[ 本帖最后由 eisenstange 于 2007-12-3 21:59 编辑 ]

i.l.s 发表于 2006-10-23 21:54

今天一口气读完了eisenstange写的文章,受益匪浅啊,当然也感谢大家的补充,让我的眼界也开拓了不少。十分感谢大家的努力,让我对微电子的行业,尤其是芯片制造有了更深的了解。
支持eisenstange,期待你的更新。等我的知识多了一些的时候,也想来这里发发言。$汗$

mimo 发表于 2006-10-27 14:13

受益匪浅! 想提几个傻问题, 请不要见笑!

楼主的文章逻辑性很强,连贯又通俗易懂, 如果不是对半导体技术有深刻的了解和认识, 很难写的这么流畅和完整。
对于我这种学艺不精的人, 这样的好文章确实有很大的帮助, 但因为知识面不广,不深,对于一些概念仍不能畅通无阻的理解, 更不可能有自己的看法, 真是惭愧!!

可不可以解释一下 mos,CMOS和 Mosfet的区别和定义, 谢谢!!

eisenstange 发表于 2006-10-27 17:08

Serial Nr: 124

[ 本帖最后由 eisenstange 于 2007-12-3 22:00 编辑 ]

eisenstange 发表于 2006-10-27 20:17

Serial Nr: 0034

[ 本帖最后由 eisenstange 于 2007-10-27 15:34 编辑 ]

eisenstange 发表于 2006-10-27 20:56

Serial Nr: 0035

[ 本帖最后由 eisenstange 于 2007-10-27 15:34 编辑 ]

i.l.s 发表于 2006-10-28 12:59

eisenstange 说的Halbleiterbauelemente我听过,考试也参加过,但是就是记得不是很牢,如果有人说起来哪个方面的知识,我可能会想起来,如果现在让我说我学了什么,还真没有什么可以说的。我是不是要在复习一下啊?

还有,在这里小跑题的问一下,咱们微电子方向需要C++这种编程语言吗?

eisenstange 发表于 2006-10-28 14:09

Serial Nr: 124

[ 本帖最后由 eisenstange 于 2007-12-3 22:00 编辑 ]

i.l.s 发表于 2006-10-28 15:58

十分感谢你的回答,我考试的时候,教授都没有问到公式的问题,只是一些物理的知识。
谁知当他问道关于Laser的结构的时候,我当时没有回答出来,唉,这样也好,我现在就是对Laser的结构比较记忆深刻了^_^

mimo 发表于 2006-10-30 15:08

Device Application Estimates of Equipment Shipped                     2005to 2010

Logic (Including Mixed Signal)48%        46%        47%        50%        55%        54%

Memory    43%        44%        43%        41%        35%        36%

Others (Opto, Power Discrete, Compound)10%        10%        10%        9%        10%        10%

The "others" category includes analog, power/discrete and bipolar. Memory includes DRAM,flash and SRAM.Advanced logic includes devices such as MPUs, ASICs, ASSPs and other MOS logic.

eisenstange 发表于 2006-10-30 20:28

Serial Nr: 124

[ 本帖最后由 eisenstange 于 2007-12-3 22:00 编辑 ]

wangsword 发表于 2006-11-5 18:23

好文,支持一下。同时有几个问题想向楼主请教。

实际上随着社会分工的越来越细,以及物流行业的发展,芯片的生产过程已经发生的很大的改变,就日常用的非处理器级的芯片设计来说,大多数欧洲的公司已经开始单搞设计,然后送要亚洲去生产。因为半导体行业确实是吞金兽,而那些大公司基本上就不对外提供外包业务,他们的机器都是二十四小时转的。
请问这里提到的“物流业的发展“同全球分工有什么联系?

从CPU的基本结构来说,计算机处理器大多是冯,诺依曼结构,而如何在这个结构上工作,就是指令集的问题了,从历史上说,有CISC,长指令,一条指令包含的地址,操作,控制非常的多,而这种处理器,制作成本很高,但速度快,后来又有了RISC,也就是现在的个人电脑的处理器,其中引入的Pipeline 技术,也就是将一个指令分成若干个时间相等的小段,然后同时进行处理。RISC的指令集的数目少,指令长度短。设计方便。
Pipeline似乎应作Pipelining。另CISC的优势在于程序的存储空间要求较小,速度方面应该逊色于RISC(考虑到Pipelining以及其他优化算法诸如dynamic branch prediction或out of order execution的效用叠加)。

当然文章的作者由于是负责软件的,对硬件可能还有些陌生,用描述语言写出来的,虽然可以使用,但是离稳定的成熟产品仍然有距离,如置顶文章中提到的,有些线路干扰,时钟的Glith,不是简单的方针就能查出来的,在很多测试的时候,都要在设计时内嵌很多测试功能,而且要将流片商的工艺拿来作参考。所以还是有不少待解决的问题,不过可以说离最终的目标是越来越近了。
谈到工艺,全球分工的时代大部分是生产外包,基本是台湾设在大陆的一些代工厂,例如上海。我通过一些渠道了解到的相关信息,也是诸如整个生产流程齐备,无尘车间搞的也是有声有色。我不知道这些生产厂是否满足所谓“龙芯流片”的工艺要求。如果可以,何以都在工艺上如此悲观。

以上是一时想到的。谢谢。

熊猫羊 发表于 2006-11-6 01:11

龙芯是在法意ST流的片,具体ST的哪家厂,我就不知了,不过ST刚和Hynix在苏州建立一座12寸Foundary,此外希拉克访华龙芯签订的大单也有ST为龙芯OEM的一项,此外,中芯国际也有不错的实力,还有CEC的华红,等等,此外,不少半导体精密设备也逐渐国产化,今后的趋势没有悬念,大陆的IC制造,消费能力都会增加,但赚大钱是另一回事,此外个人觉得,龙芯的成败,不仅仅在于技术还有国家的较量在里边.

熊猫羊 发表于 2006-11-6 01:12

道听途说,和菜鸟比起来我是"行家",和行家比起来我是菜鸟,拍我就用词典,别用板砖

eisenstange 发表于 2006-11-6 19:37

Serial Nr: 0036

[ 本帖最后由 eisenstange 于 2007-10-27 15:36 编辑 ]

熊猫羊 发表于 2006-11-6 19:50

中芯国际 是在国外注册的,这我知道,不过注册地是典型的 内资转外资 的目的地,其后的推手是谁不言而喻

[ 本帖最后由 熊猫羊 于 2006-11-6 18:57 编辑 ]
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查看完整版本: 原:芯片设计概述与基本设计过程(连载)(12月16日)